Lò Đốt Nitơ Plasma Xung Tần Sâu Lớn E-RPNS600M

Dòng E-RPNS đại diện cho một hệ thống nitriding ion xung loại chuông tiên tiến được thiết kế cho sản xuất cao cấp. Tích hợp hệ thống sưởi nguồn nhiệt kép, điều khiển thông minh AI và tiêu chuẩn xử lý cấp hàng không, lò E-RPNS cung cấp thời gian xử lý siêu nhanh, độ đồng đều lớp đặc biệt và hiệu suất khuếch tán sâu đồng thời giảm tiêu thụ năng lượng một cách mạnh mẽ.

Tổng quan Thông số Kỹ thuật

• Kiến trúc Lò: Cấu hình Phòng Loại Chuông

• Loại Nguồn Điện: DC Xung Tần Cao / Nguồn Plasma

• Đồng Đều Nhiệt Độ: ±5°C (Hệ thống Tường Sưởi Hoạt Động)

• Thời Gian Xử Lý: 1 – 2 Giờ (Tùy Theo Ứng Dụng)

• Độ Sâu Lớp Khuếch Tán: > 100 μm

• Nhiệt Độ Tùy Chỉnh Tối Đa: Tới 900°C (Đối Với Titan/Kim Loại Đặc Thù)

• Khả Năng Tương Thích Quy Trình: Nitriding Plasma, Nitrocarburizing, Sau-Oxidation

• Tuân Thủ Ngành: Tiêu Chuẩn Hàng Không AMS 2750 / AMS 2759

Đặc Điểm Chính & Ưu Điểm Công Nghệ

1. Sưởi Hợp Tác Nguồn Nhiệt Kép (Chế Độ Nhiệt Kép)

• Hệ thống Sưởi Kết Hợp: Sử dụng hệ thống sưởi phụ kết hợp với bombard ion năng lượng cao để đạt được phân bố nhiệt nhanh và đồng đều.

• Bù Trừ Nhiệt Chính Xác: Mô-đun sưởi phụ duy trì độ đồng đều nhiệt độ tổng thể của phòng, cho phép nguồn plasma tập trung hoàn toàn vào việc tạo ra ion hoạt động mật độ cao.

• Tường Sưởi Hoạt Động Toàn Diện: Toàn bộ tường phòng được sưởi hoạt động đến nhiệt độ hoạt động quy trình chính xác, giảm đáng kể gradient nhiệt trên các tác phẩm với độ đồng đều nhiệt trong khoảng ±5°C.

• Ấm Dịu Nhiệt Tốt: Thiết kế cách nhiệt bao bọc toàn diện giảm đáng kể tổn thất nhiệt bức xạ và giảm tiêu thụ năng lượng.

2. Điều Khiển AI Thông Minh & Hiệu Suất Cao Tốc

• Điều Khiển Chip Thông Minh AI: Được cung cấp năng lượng bởi bộ vi xử lý AI tiên tiến để tự động hóa toàn quy trình, điều chỉnh tham số chính xác và độ tin cậy hoạt động cao.

• Xử Lý Siêu Nhanh: Hiệu suất ion hóa plasma đặc biệt cao giảm thời gian chu kỳ. Xử lý nitriding có thể hoàn thành trong chỉ 1–2 giờ, tăng hiệu suất gấp nhiều lần so với quy trình thông thường.

3. Khuếch Tán Sâu & Cấu Trúc Siêu Bẩm Mềm

• Lớp Khuếch Tán Siêu Sâu: Có khả năng đạt được độ sâu lớp khuếch tán vượt quá 100 μm với độ bền liên kết superior, nâng cao đáng kể khả năng chống mỏi và tuổi thọ mài mòn.

• Mật Độ & Đồng Đều Cao: Phân bố mật độ plasma đồng đều loại bỏ lỗ xốp và khiếm khuyết lỗ kim, tạo ra một lớp hợp chất đặc biệt dày đặc với độ nhất quán vững chắc.

4. Hoạt Động Linh Hoạt, An Toàn & Thân thiện Môi Trường

• Không Cung & Thân thiện Môi Trường: Sử dụng hóa học khí nitơ tinh khiết với rủi ro cung bằng không, cung cấp một quy trình xanh, không ô nhiễm tuân thủ các tiêu chuẩn môi trường toàn cầu nghiêm ngặt.

• Khả Năng Quy Trình Đa dạng: Hỗ trợ các quy trình Ion Nitriding, Nitrocarburizing, và Ion Nitriding + Sau-Oxidation.

• Tùy Chỉnh Nhiệt Độ Cao: Có sẵn các cấu hình nhiệt độ cao tùy chỉnh lên đến 900°C để nitriding đặc biệt của kim loại titan, kim loại tantali và kim loại exotic.

• Tuân Thủ Hàng Không: Được thiết kế tuân thủ đầy đủ các tiêu chuẩn quy trình hàng không AMS 2750 và AMS 2759.