E-RPNS600T là lò nitriding plasma xung tần cao kiểu chuông hai buồng tiên tiến, được thiết kế cho sản xuất công nghiệp khối lượng lớn. Với kiến trúc tích hợp cao hoạt động hai buồng xen kẽ, E-RPNS600T loại bỏ hoàn toàn thời gian dừng cho việc nạp, rút và làm mát, mang lại mức sử dụng thiết bị tối đa cùng chất lượng xử lý cấp hàng không.
Tổng quan Thông số Kỹ thuật
-
Kiến trúc Lò: Cấu hình Kiểu Chuông Hai Buồng (Hoạt động Xen Kẽ)
-
Loại Nguồn Điện: DC Xung Tần Cao / Nguồn Plasma
-
Chế Độ Hoạt Động: Hệ Thống Nạp/Xử Lý Hai Buồng Xen Kẽ Liên Tục
-
Thời Gian Xử Lý: 1 – 2 Giờ (Tùy Theo Ứng Dụng)
-
Độ Sâu Lớp Lan Rây: > 100 μm
-
Nhiệt Độ Tùy Chỉnh Tối Đa: Lên Đến 900°C (Đối Với Titan & Hợp Kim Nghiêm Bất)
-
Khả Năng Phù Hợp Xử Lý: Nitriding Plasma, Nitrocarburizing, Sau Ôxidation
-
Tuân Thủ Công Nghiệp: Tiêu Chí Hàng Không AMS 2750 / AMS 2759
Đặc Điểm Chính & Ưu Điểm Công Nghệ
1. Kiến Trúc Hệ Thống Tích Hợp Cao
-
Cơ Sở Kiểm Soát Đơn Nhất: Tích hợp hệ thống điều khiển điện chia sẻ, hệ thống bơm chân không, hệ thống phân phối khí xử lý và cơ chế nâng/chuyển lò để hoạt động đồng bộ.
-
Diện Tích Bề Mặt Khuôn Trụ: Tối ưu hóa bố cục xưởng đồng thời tối ưu không gian sàn và hiệu quả phân phối điện.
2. Hoạt Động Hai Buồng Xen Kẽ (Tỷ Lệ Sử Dụng Gấp Đôi)
-
Chu Kỳ Xử Lý Liên Tục: Trong khi một buồng đang thực hiện quá trình nitriding, buồng thứ hai có thể được nạp, rút hoặc làm mát.
-
Hiệu Quả Không Thời Gian Dừng: Loại bỏ thời gian chờ lò truyền thống để sưởi và làm mát, tối đa hóa mức sử dụng thiết bị tổng thể và tăng năng suất gấp đôi.
3. Kiểm Soát AI Trí Tuệ & Nitriding Tốc Độ Cao
-
Kiểm Soát Bộ Xử Lý Micro AI: Được trang bị chip AI tiên tiến để điều khiển tự động toàn quá trình, đảm bảo độ chính xác tham số nhất quán và hoạt động đáng tin cậy.
-
Thời Gian Chu Kỳ Siêu Nhanh: Hiệu quả ion hóa plasma cao rút ngắn đáng kể chu kỳ xử lý. Công việc nitriding có thể hoàn thành trong chỉ 1 đến 2 giờ, tăng hiệu quả gấp nhiều lần so với phương pháp thông thường.
4. Lan Rây Sâu & Cấu Trúc Siêu Lớp Tuyệt Vời
-
Lớp Lan Rây Siêu Sâu: Đạt độ sâu lớp lan rây nitriding vượt quá 100 μm với độ bám dính tuyệt vời, tăng đáng kể tuổi thọ mỏi và độ chịu mài mòn.
-
Mật Độ & Đều Nhất Tuyệt Vời: Phân bố trường plasma đồng đều ngăn chặn lỗ xốp và khiếm khuyết lỗ kim, tạo ra lớp hợp chất dày đặc, không khiếm khuyết với độ nhất quán tuyệt vời giữa các lô.
5. Đa Năng Đa Xử Lý & Tuân Thủ Hàng Không
-
Không Cung Điện & Thân thiện Môi Trường: Sử dụng hóa học khí nitrogen tinh khiết với rủi ro cung điện bằng không, đáp ứng tiêu chuẩn công nghiệp thân thiện môi trường toàn cầu.
-
Khả Năng Đa Xử Lý: Hỗ trợ đầy đủ các xử lý Nitriding Plasma, Nitrocarburizing và Nitriding Plasma + Sau Ôxidation.
-
Tùy Chỉnh Nhiệt Độ Cao: Cấu hình tùy chỉnh tùy chọn lên đến 900°C có sẵn cho nitriding chuyên biệt của hợp kim titan, hợp kim tantali và kim loại exotic nhiệt độ cao.
-
Chứng Nhận Tiêu Chí Hàng Không: Được chế tạo tuân thủ đầy đủ tiêu chuẩn chất lượng hàng không AMS 2750 và AMS 2759.
Sản phẩm được đề xuất